特許

J-GLOBAL ID：200903095866900309

薬液処理方法及び薬液処理装置

発明者： 鈴木 啓太 ,  川崎 信幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242569
公開番号（公開出願番号）：特開平8-107100
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 ウエハの処理面内で均一な処理効果を得ることができる薬液処理方法及び薬液処理装置を提供する。【構成】 第1工程では、液槽11内に溜められた薬液12の液面12aに対してウエハ13の処理面13aがほぼ垂直をなす第1の状態でウエハ13を下降させ、薬液12中にウエハ13を浸漬する。第2工程では、所定時間が経過した後、ウエハ13の上下が上記第1の状態と反転する第2の状態でウエハ13を上昇させ、ウエハ13を薬液12中から引き上げる。これによって、第1工程でウエハ13を薬液12中に浸漬させる際に薬液12と早く接触したウエハ13部分から順に、ウエハ13を薬液12中から引き上げ、ウエハ13の処理面13a内における薬液12への浸漬時間を均一化する。

請求項（抜粋）：

液槽内に溜められた薬液の液面に対してウエハの処理面がほぼ垂直をなす第1の状態で当該ウエハを下降させ、当該薬液中に前記ウエハを浸漬する第1工程と、所定時間が経過した後、前記ウエハの上下が前記第1の状態と反転する第2の状態で当該ウエハを上昇させ、当該ウエハを前記薬液中から引き上げる第2工程とからなることを特徴とする薬液処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  B08B 3/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304