特許
J-GLOBAL ID：200903095882088738
フオトマスクの洗浄装置及びフオトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-300435
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134398
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】フォトマスク表面をブラシでこすることによりパーティクルを除去する際にブラシに付着したパーティクルが、再びフォトマスクの表面に付着しない、フォトマスクの両面スクラブ洗浄装置を提供する。【構成】スクラブ洗浄槽14の上部に、振動板8を貼付けたノズル9が設けてある。超音波発振器7により、振動板8がノズル9内の純水に振動を与え、ノズル9から超音波振動を与えられた純水10がブラシ3に吐出されることにより、フォトマスク1から脱落してノズル3に付着したパーティクルが、容易に除去できる。
請求項（抜粋）：
フォトマスクの表面に付着したパーティクルを除去するために前記フォトマスクの表面をブラシでこするフォトマスクの洗浄装置において、超音波発振器と振動板を有し、超音波振動を与えた水流を前記ブラシに流すことを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。
IPC (6件)：
G03F 1/08
, B08B 1/00
, B08B 3/02
, B08B 3/12
, B44C 1/22
, H01L 21/304 341
