特許

J-GLOBAL ID：200903095893199361

研磨装置および研磨方法

発明者： 鈴木 恵友
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-092230
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288913
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】処理液の浪費を抑えることができる研磨装置および研磨方法を提供すること。【解決手段】研磨装置2は、定盤4と、定盤4の上面に取り付けられた研磨パッド3と、研磨パッド3を取り囲むように設けられた可動壁7とを備えている。定盤4は、中空状に形成されており、その内部には、挿通管61および薬液供給管62を介して薬液が供給されるようになっている。薬液供給管62の途中部には、薬液供給管62を流れる薬液の流量を調整するための流量調整機構64が介装されている。可動壁7は、流量調整機構64によって定盤4に供給される薬液の流量を調整することにより、定盤4内に収容された状態と、定盤4の上面に突出して、定盤4上に一定量の薬液を溜めることのできる状態とに変位させることができるようになっている。

請求項（抜粋）：

被研磨物を研磨するための研磨装置であって、被研磨物に対向して設けられた定盤と、この定盤の被研磨物に対向する面に設けられており、被研磨物に当接して被研磨物を擦るための研磨パッドと、この研磨パッドと被研磨物との間に、被研磨物の研磨処理に必要な処理液を供給するための処理液供給手段と、上記研磨パッドを取り囲むように設けられ、上記定盤の被研磨物に対向する面の下方に退避した状態と、上記定盤の被研磨物に対向する面よりも上方に突出して、上記研磨パッドを含む領域内に処理液を滞留させることができる状態とに変位可能な可動壁と、この可動壁を変位させるための変位手段とを含むことを特徴とする研磨装置。

IPC (4件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B24B 37/00 K ,  H01L 21/304 621 D ,  H01L 21/304 622 E ,  H01L 21/304 622 F

Fターム (10件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA14 ,  3C058AC04 ,  3C058BA05 ,  3C058BB04 ,  3C058BC02 ,  3C058CB01 ,  3C058CB04 ,  3C058DA17