特許
J-GLOBAL ID:200903095895161205
感放射線性樹脂組成物及び感放射線性樹脂パターンの形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-323673
公開番号(公開出願番号):特開2006-133585
出願日: 2004年11月08日
公開日(公表日): 2006年05月25日
要約:
【課題】フラットパネルディスプレイ分野に好適に用いられる、低温での熱フローが可能で、かつ剥離残の問題のない感放射線性樹脂組成物、及び前記樹脂組成物を用いる感放射線性樹脂パターンの形成方法を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)キノンジアジド基含有化合物と、(C)アリル基を有する特定構造のフェノール化合物を含む感放射線性樹脂組成物、及び(a)前記樹脂組成物を基板に塗布し、(b)この基板をプリベイクしてレジスト膜を形成した後、(c)レジスト膜に活性放射線を照射してパターンの潜像を形成し、次いで(d)アルカリ現像液で現像処理した後、(e)ポストベイクして感放射線性樹脂パターンを形成するに際し、前記(e)ポストベイクが、100〜140°Cの雰囲気下で行われる感放射線性樹脂パターンの形成方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)キノンジアジド基含有化合物と、(C)フェノール化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、前記(C)成分のフェノール化合物が、一般式(I)
IPC (3件):
G03F 7/004
, G02F 1/136
, G03F 7/40
FI (3件):
G03F7/004 501
, G02F1/136
, G03F7/40 501
Fターム (31件):
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CB42
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA29
, 2H092JA24
, 2H092JA34
, 2H092JA37
, 2H092JA41
, 2H092JB21
, 2H092JB56
, 2H092KA12
, 2H092KB21
, 2H092MA15
, 2H092MA16
, 2H092NA11
, 2H092NA15
, 2H092NA27
, 2H096AA26
, 2H096AA27
, 2H096BA10
, 2H096DA01
, 2H096GA08
, 2H096HA01
引用特許:
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