特許
J-GLOBAL ID：200903095900758827
複合型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-086707
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283218
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 磁極部分を微細化しても磁束の飽和や漏れが少なく、特に短いスロートハイト、アペックスアングル、MRハイトなどを正確に所望の値にできる複合型薄膜磁気ヘッドおよびそれを効率良く、迅速に量産できる方法を提供する。【解決手段】 GMR層33の下部シールドである第1の磁性膜24をマスクとして基体23に凹部25を形成し、凹部内に第2の磁性膜27と、薄膜コイル30を形成し、平坦化して複合型薄膜磁気ヘッド製造用の共通ユニットを形成する。その後、第2の磁性膜27と連結してボトムポールを構成する第3の磁性膜34を、エアベアリング面と隣接する肉厚部分34aと、第2の磁性層と隣接する肉薄部分34bを有するように形成し、これらの部分の段差をスペーサ用絶縁層35で埋めて平坦化した後、ライトギャップ膜36およびトップポールを構成する第4の磁性膜37を平坦に形成する。
請求項（抜粋）：
磁気抵抗素子を含む読み取り用薄膜磁気ヘッドと、書き込み用磁気ヘッドとを積層した状態で基体により支持した複合型薄膜磁気ヘッドであって、一方の面に凹部を有する基体と、この基体の面に沿って、エアベアリング面を構成する端面から前記凹部の端縁近傍まで延在する第1の磁性層と、この第1の磁性層と磁気的に分離された状態で、前記凹部の内面の一部に沿って延在する第2の磁性層と、前記凹部内に、絶縁層によって絶縁分離された状態で少なくとも一部分が形成され、誘導型薄膜磁気ヘッドを構成する薄膜コイルと、前記第1の磁性層の、前記基体とは反対側の面に沿って延在するシールドギャップ層中に、電気的および磁気的に絶縁分離された状態で配設された磁気抵抗素子と、このシールドギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って延在し、エアベアリング面と隣接する膜厚の厚い部分と、第2の磁性層と隣接する膜厚の薄い部分とを有する第3の磁性層と、この第3の磁性層の膜厚の厚い部分と膜厚の薄い部分との段差を埋めるように形成されたスペーサ用絶縁層と、少なくとも前記第3の磁性層の膜厚の厚い部分の、前記基体とは反対側の面に沿って延在し、第3の磁性層の膜厚の薄い部分の前記基体とは反対側の面とはスペーサ用絶縁層を介して分離されたライトギャップ層と、このライトギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って延在し、前記第3の磁性層と対向するとともにエアベアリング面から離れた後方位置において前記第2の磁性層と磁気的に結合された第4の磁性層と、を具えることを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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