特許
J-GLOBAL ID：200903095901662017
薄膜形成方法および薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-203816
公開番号（公開出願番号）：特開2000-144435
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 真空装置などの高価な設備、煩雑な工程を要さずに安価で均一な膜厚の薄膜を形成する方法およびその方法を実施する装置を提供する。【解決手段】 ソース材料が溶媒に溶解したソース材料溶液を超音波振動子により霧化し、霧化した前記溶液の微粒子をキャリアガス中に含ませた吹き付け用ガスを、予め加熱した製膜用基板の表面に吹き付け、前記微粒子中のソース材料を熱分解させて、前記製膜用基板上に金属酸化物あるいは金属硫化物の薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記吹き付け用ガス中の前記微粒子の含有量、排気ガス中の前記ソース材料の分解ガスの含有量、または排気ガス中の前記溶媒の蒸気濃度を測定し、測定値が適正値となるように前記超音波振動子の出力を制御しながら前記薄膜を形成する方法およびこれらの方法を実施するための装置。
請求項（抜粋）：
ソース材料が溶媒に溶解したソース材料溶液を超音波振動子により霧化し、霧化した前記溶液の微粒子をキャリアガス中に含ませた吹き付け用ガスを、予め加熱した製膜用基板の表面に吹き付け、前記微粒子中のソース材料を熱分解させて、前記製膜用基板上に金属酸化物または金属硫化物の薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記吹き付け用ガス中の前記微粒子の含有量を測定し、測定値が適正値となるように前記超音波振動子の出力を制御しながら前記薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (5件)：
C23C 18/12
, C01G 9/08
, C01G 11/02
, C01G 19/02
, C23C 16/44
C23C 18/12
, C01G 9/08
, C01G 11/02
, C01G 19/02 C
, C23C 16/44 A
