特許

J-GLOBAL ID：200903095902138940

露光装置、およびデバイス製造方法

発明者： 木村 隆昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367955
公開番号（公開出願番号）：特開2005-136004
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】 投影光学系、レチクルステージ、あるいは基板ステージ等の温度制御系に障害が発生した場合であっても、速やかに復旧できるようにする。【解決手段】 温調媒体の温度を所定の設定温度で粗調整する粗調整系73と、粗調整系73により冷却された温調媒体の温度を微調整して投影光学系PLに対して循環させて、その温度を制御する第1微調整系C1と、粗調整系73により温調された温調媒体の温度を微調整してレチクルステージ2、基板ステージ5に対して循環させて、ステージ2,5の温度を制御する第2微調整系C5,C6とを備えている。微調整系C1,C5,C6に障害が発生したことを検出装置69a,76a,79aにより検出し、制御装置77は障害が発生した微調整系の制御バルブ67,80,84を停止し、粗調整系73の設定温度を温度制御系全体の熱量収支に応じて低下させる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

レチクルステージ上に保持されたレチクルのパターン像を、基板ステージ上に保持された基板上に投影光学系を介して投影する露光装置であって、 温調媒体の温度を所定の設定温度に粗調整する粗調整系と、 前記粗調整系により温調された温調媒体の温度を微調整して前記投影光学系に対して循環させて、該投影光学系の温度を制御する第1微調整系と、 前記粗調整系により温調された温調媒体の温度を微調整して前記レチクルステージおよび前記基板ステージの少なくとも一方に対して循環させて、該ステージの温度を制御する第2微調整系と、 前記第1および前記第2微調整系内における障害の発生を検出する検出装置と、 前記検出装置により障害が検出された微調整系について前記温調媒体の循環を停止させるとともに、前記粗調整系の前記設定温度を変更する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 516E ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭61-44429号公報