特許
J-GLOBAL ID：200903095906461214
識別パターン付き基板および識別パターン読取方法並びに装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065304
公開番号（公開出願番号）：特開平10-247613
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】 識別パターンを背景の如何に関わらず読み取る。【解決手段】 ウエハ1の第1主面2に予め形成されるIDパターン6は、大きさがこのIDパターン6よりも小さい小パターン部であるセグメント7の多数の集合によって構成される。IDパターン6はウエハ1を透過可能な赤外線Rをウエハ1の第2主面側からIDパターン6に斜めに照射し、赤外線Rのセグメント7における散乱光Raを検出することにより読み取られる。【効果】 ウエハの第2主面側から背景に影響されずにIDパターンを読み取ることにより、半導体プロセスを経るに従ってウエハの第1主面側に順次形成される薄膜に影響を受けずにIDパターンを読み取ることができるため、いずれの半導体プロセスにおいてもIDパターンを正確に読み取ることができる。
請求項（抜粋）：
第1主面に識別のための識別パターンが形成されている基板において、前記識別パターンは大きさが前記識別パターンよりも小さい小パターン部の集合によって構成されていることを特徴とする識別パターン付き基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 A
, H01L 23/00 A
