特許
J-GLOBAL ID:200903095914560183

欠陥を有する電気機械画素の効果を軽減する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-265039
公開番号(公開出願番号):特開平6-258586
出願日: 1993年10月22日
公開日(公表日): 1994年09月16日
要約:
【要約】【目的】 欠陥を有する電気機械画素の効果を、その画素を完全に消失させる、または、非反射状態にするなどにより、軽減する方法を提供する。【構成】 本発明の方法は過大な機械的応力、過大な熱的応力、電気化学的反応、または、熱的に誘起された化学反応により、前記電気機械画素のヒンジまたはビームに、損傷を与えるのに十分な電圧を加え、これらのヒンジまたはビームに損傷を与える段階を有する。
請求項(抜粋):
光を観察者の視野に送り、かつ、ビームおよびヒンジを備えた、欠陥を有する明るい電気機械画素の光を軽減する方法であって、前記電気機械画素に損傷を与えるのに十分な電圧を加えて前記画素が光を前記視野にもはや送らないようにする段階を有する、前記方法。

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