特許
J-GLOBAL ID：200903095917333331
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-085726
公開番号（公開出願番号）：特開平8-287833
出願日： 1995年04月11日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【目的】 本発明はAC型プラズマディスプレイパネル(AC-PDP)の製造方法に関し、誘電体層を保護し良好な放電特性を得るための<111>に配向した酸化マグネシウム膜を容易に得ることを目的とする。【構成】 放電空間5に対して誘電体層6aを被覆する酸化マグネシウムからなる表面保護層7bを、<111>配向の酸化マグネシウム膜を保護層形成下地層7aとして用いて蒸着形成することにより、低基板温度、高堆積速度で<111>配向の膜とする。
請求項（抜粋）：
第1及び第2の絶縁性基板、誘電体に覆われた電極対、誘電体上に電極部を覆うように形成された酸化マグネシウム(MgO)層及び放電ガスで充たされた放電空間からなる交流駆動型ガス放電表示パネルの製造方法において、前記酸化マグネシウム層の形成工程が、<111>配向の酸化マグネシウム膜を下地層としてさらにその上に酸化マグネシウム膜を積層形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 11/00 Z
, H01J 9/02 F
