特許
J-GLOBAL ID：200903095920771870
シリコンウエーハの保管方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-079601
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263403
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 鏡面研磨ウエーハを製造する工程で仕掛かっているシリコンウエーハを、その表面に汚れが発生することなく保管できる方法を提供する。【構成】 シリコンウエーハを、好ましくは過酸化水素濃度0.05wt%〜1wt%、温度10°C〜30°Cの過酸化水素水中に浸漬して保管する。【効果】 保管時間を120時間としても、ウエーハ表面に汚れが発生しなくなる。
請求項（抜粋）：
酸、アルカリ等の薬液による処理後のシリコンウエーハを直ちに、あるいは水洗した後直ちに、過酸化水素水中に浸漬することを特徴とするシリコンウエーハの保管方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
