特許
J-GLOBAL ID:200903095924447610
低硬度導電性ロールの製法およびそれにより得られた低硬度導電性ロール
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西藤 征彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-317761
公開番号(公開出願番号):特開平11-267583
出願日: 1997年11月11日
公開日(公表日): 1999年10月05日
要約:
【要約】【課題】トナーフィルミングを生じず、しかも耐久性に優れる低硬度導電性ロールの製法およびそれにより得られた低硬度導電性ロールを提供する。【解決手段】本発明の低硬度導電性ロール18の製法は、軸体を有するロール基体16を準備するとともに,NCO/活性水素比が,当量比で,NCO/活性水素=2.5〜35の範囲となるよう下記の(a)および(b)成分を配合した表面層17形成用溶液を準備する工程と、上記ロール基体16の外周に上記表面層17形成用溶液を塗工する工程と、上記表面層17形成用溶液を塗工したロール基体16を加熱処理することにより,ロール基体16の外周に表面層17を形成するとともに,上記(b)成分のブロックを外しそのイソシアネート基と上記(a)成分の水酸基またはアミノ基を反応させて上記(a)成分を(b)成分により架橋する工程とを備えるという構成である。(a)水酸基またはアミノ基を有する溶剤可溶性ポリマー。(b)ブロックイソシアネート。
請求項(抜粋):
軸体を有するロール基体を準備するとともに,NCO/活性水素比が,当量比で,NCO/活性水素=2.5〜35の範囲となるよう下記の(a)および(b)成分を配合した表面層形成用溶液を準備する工程と、上記ロール基体の外周に上記表面層形成用溶液を塗工する工程と、上記表面層形成用溶液を塗工したロール基体を加熱処理することにより,ロール基体の外周に表面層を形成するとともに,上記(b)成分のブロックを外しそのイソシアネート基と上記(a)成分の水酸基またはアミノ基を反応させて上記(a)成分を(b)成分により架橋する工程とを備えることを特徴とする低硬度導電性ロールの製法。(a)水酸基またはアミノ基を有する溶剤可溶性ポリマー。(b)ブロックイソシアネート。
IPC (7件):
B05D 7/00
, B05D 5/12
, B05D 7/24 302
, F16C 13/00
, G03G 15/02 101
, G03G 15/08 501
, G03G 15/16
FI (7件):
B05D 7/00 K
, B05D 5/12 B
, B05D 7/24 302 T
, F16C 13/00 E
, G03G 15/02 101
, G03G 15/08 501 D
, G03G 15/16
引用特許:
審査官引用 (3件)
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ロール用組成物及びロール
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-030246
出願人:出光石油化学株式会社
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導電性樹脂
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-092241
出願人:三洋化成工業株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-291202
出願人:キヤノン株式会社
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