特許
J-GLOBAL ID：200903095927269577
光学的に読み取り可能なデータメモリの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 浩 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-171791
公開番号（公開出願番号）：特開平5-210874
出願日： 1992年06月04日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【構成】 光学的データメモリに情報を記憶する方法は、マスク18、ホログラス結像処理技術、直接書き込み等を用いた比較的低流束量の照射によって選択された領域を予め処理する第1の段階と、比較的高流束量の第2の非選択的照射を行うことによって、第1の段階で露光された領域を表面から除去する第2の段階を有する。【効果】 記憶すべき情報の変更を簡単に行ない得る光学的読み取り可能なデータメモリが得られる。
請求項（抜粋）：
基板材料の表面を構造化した光学的に読み取り可能なデータメモリの製造方法であって、特徴として、第1段階において、上記基板材料の選択された領域に対し、ミクロン及び/またはサブミクロン台で面積的に選択的な第1の輻射線照射を行って、基板材料の光吸収容量を増大させ、第2段階において、面積的に非選択的に、基板を輻射線で照射して、上記第1段階で前処理された上記選択された領域のみにおいて上記基板材料を除去する、光学的に読み取り可能なデータメモリの製造方法。
IPC (2件)：
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