特許

J-GLOBAL ID：200903095931348767

パターン形成方法及び反射型光学部品

発明者： 大金 政信
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156610
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348672
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【目的】 工程が複雑なレジスト法を用いることなく、親水化表面処理と無電解メッキを用いるのみで工程数を少なく且つ簡単に基材の所望の箇所のみへの金属化を施すことにより所望のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供すること。【構成】 基材上の所望の成膜箇所にのみ親水化処理を行い、前記処理された基材を無電解メッキ処理することによって前記処理箇所にのみ金属膜を成膜して所望のパターンを得る。

請求項（抜粋）：

基材上の所望の成膜箇所にのみ親水化処理を行い、前記処理された基材を無電解メッキ処理することによって前記処理箇所にのみ金属膜を成膜して所望のパターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5件)：

C23C 18/20 ,  C23C 18/18 ,  C23C 18/31 ,  C23C 18/42 ,  G02B 5/08

FI (6件)：

C23C 18/20 Z ,  C23C 18/18 ,  C23C 18/31 A ,  C23C 18/42 ,  G02B 5/08 A ,  G02B 5/08 C

Fターム (20件)：

2H042DA04 ,  2H042DA11 ,  2H042DC03 ,  4K022AA03 ,  4K022AA19 ,  4K022AA20 ,  4K022AA21 ,  4K022AA23 ,  4K022AA41 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022CA12 ,  4K022CA15 ,  4K022CA20 ,  4K022DA01