特許

J-GLOBAL ID：200903095935565142

マイクロ光学素子の製造方法

発明者： エドワード・ジェイ・グラトリックス
出願人/特許権者： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098174
公開番号（公開出願番号）：特開平7-049403
出願日： 1994年04月12日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、製造が容易で精密なマイクロ光学素子の製造方法を得ることを目的とする。【構成】 マスク材料の層12で基体の表面を被覆し、基体の選択された部分を露出するためにマスク材料12を通る1以上の開口14を形成し、基体の選択された部分がエッチングされるように等方性エッチングに基体の選択された部分を露出してエッチングを行い(図1C)、基体材料からマスク材料を除去し(図1D)、等方性エッチングプロセスに基体を露出するステップを含んでいることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスク材料の層で基体の表面を被覆し、前記基体の選択された部分を露出するために前記マスク材料を通る1以上の開口を形成し、前記基体の選択された部分がエッチングされるように等方性エッチングに前記基体の選択された部分を露出し、前記基体材料から前記マスク材料を除去し、一般化された等方性エッチングプロセスに前記基体を露出するステップを含んでいるマイクロ素子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-232743
  
• 特開昭63-265842
  
• 特開昭58-091407
  
• 特開平4-030103
  
• 特開平4-348301