特許
J-GLOBAL ID：200903095941355125
パターン欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-334227
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198618
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 簡単な作業で、クリーン度を向上して検査対象基板の欠陥を検出できるパターン欠陥検査装置を提供する。【構成】 検査用マスク8をマスクホルダ5に、ガラス基板7を基板ステージ21にバキューム吸着で固定する。基板ステージ21はZ軸方向に上昇し、検査用マスク8に対してガラス基板7の平行度を維持したまま上昇させ、間隙が数10μm〜数100μmとなる位置で停止する。作業者の最も検査しやすい状態にガラス基板7および検査用マスク8をアライメントする。パターン7p ,8p が、互いのパターン7p ,8p 以外の部分で重なり合うため、ガラス基板7および検査用マスク8の全面でバックライト22からの透過光を遮断する。欠陥部分Sは、バックライト22からの光がガラス基板7のパターン7p および検査用マスク8のパターン8p に阻まれることなく通過するため、輝点となって容易に発見できる。
請求項（抜粋）：
透明基板上にパターンが形成された検査対象基板の欠陥を検査するパターン検査装置において、前記検査対象基板のパターンに対して反転したパターンを有し前記検査対象基板に重ね合わせる検査用マスクと、前記検査対象基板および前記検査用マスクを対応させるとともに平行に前記検査対象基板に対して相対的に前記検査用マスクを位置決めする位置決め手段と、前記検査対象基板および前記検査用マスクを重ね合わせた状態を撮像する撮像手段と、この撮像手段で撮像された重ね合わせ状態に基づき検査結果を表示する表示手段とを具備したことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01R 31/02
, G02B 27/62
, H01L 21/027
