特許
J-GLOBAL ID：200903095947514055
光学薄膜及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-271992
公開番号（公開出願番号）：特開平8-136701
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 充分な光学特性を有する光学薄膜をスパッタリング法により形成させる。【構成】 フッ化アルミニウムとシリコンとの混合物で構成したターゲットを用い、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより成膜し、膜の層を少なくとも1層または複数層に形成する。本発明による光学薄膜は図1の単層膜の例に示すとおり、可視域波長400〜700nmにおいて2%以下の反射率となり充分な光学特性を有する膜を構成している。
請求項（抜粋）：
フッ化アルミニウムとシリコンとの混合物で構成したターゲットを用い、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより成膜することを特徴とする光学薄膜及びその製造方法。
IPC (2件)：
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