特許
J-GLOBAL ID：200903095952065196
パターン検査装置、欠陥検査装置およびパターン検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-232565
公開番号（公開出願番号）：特開平9-079991
出願日： 1995年09月11日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【課題】 欠陥検出感度を下げずに検査処理のスループットを上げる。【解決手段】 照明光源11から射出された照明光は、集光レンズ12で集光された後にスキャナ15の反射面で反射され、リレーレンズ17を通過した後にミラー27で反射されて対物レンズ18を通過し、ステージ5に載置された被検体に導かれる。被検体で反射された反射光は、対物レンズ18を通過した後にミラー27で反射され、照明光源11からの照明光とは逆の経路を辿って、撮像面上に結像されてパターン検査が行われる。スキャナ14,15の角度を変更することで被検体全面を走査してパターン検査を行う1次検査が終了すると、1次検査時に検出された欠陥候補点を対象として2次検査を行う。その際、レーザ干渉計26により検出されたステージ5の移動速度VsがVcよりも大きい場合には、被検体像の移動速度がVc以下になるようにスキャナ14,15を制御する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一方向に移動可能なステージを備え、照明光源からの照明光を前記ステージに載置された試料に照射し、該試料面からの反射光を光電変換手段により電気信号に変換して該試料面に形成されたパターンの検査を行うパターン検査装置において、前記ステージの移動速度および移動方向にかかわらず、前記光電変換手段の受光面に結像される試料像の移動速度が所定速度以下になるように前記試料面上での前記照明光の照射位置を制御する検査制御手段を備えることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G06T 7/00
, G06T 1/00
G01N 21/88 E
, G06F 15/62 405 A
, G06F 15/64 325 F
