特許
J-GLOBAL ID：200903095952807451
高分子射出成形装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅原 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046200
公開番号（公開出願番号）：特開平8-216194
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：
【要約】【目的】 射出成形の基本的メリットである高生産性を損ねることなしに、樹脂材料の転写性を向上させるとともに均一な光学的特性を具えた成形品を提供すること。【構成】 成形金型キャビティ1の少なくとも難転写区域12を画定する型壁部分2を赤外線透過性材料により形成し、射出成形時に外部光源から該型壁部分2に赤外線を照射する。【作用】 赤外線照射によるエネルギーを吸収する結果、被照射型壁部分近傍の樹脂材料が昇温して粘性が低下する。一方型壁部分の方は赤外線透過性なのでエネルギーを吸収せず、昇温しない。
請求項（抜粋）：
成形金型キャビティの少なくとも難転写区域を画定する型壁部分が赤外線透過性材料により形成されており、射出成形時に外部から該型壁部分に赤外線を照射する光源が成形金型に付設されていることを特徴とする高分子射出成形装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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