特許

J-GLOBAL ID：200903095954272890

アルゴン又は窒素エーロゾルを用いる表面清浄方法

発明者： ウェーン.トーマス.マックダーモット ,  リチャード.カール.オッコーヴィック ,  ジン.ウァン.ウー ,  ダグラス.ウィンスロー.クーパー ,  アレキサンダー.シュワーツ ,  ヘンリー.ルイス.ウォルフ
出願人/特許権者： エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド ,  インターナショナル.ビジネス.マシーンズ.コーポレイション
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-290011
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224172
出願日： 1993年10月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【構成】 少なくとも実質的に固体のアルゴン又は窒素の粒子を清浄にされるべき表面にぶっつけ、次いで蒸発させ、得られたガスを汚染物と共に排出して除去するミクロ電子部品表面の清浄化方法。【効果】 本発明の方法によれば、マイクロ電子部が再汚染のおそれなしに効果的にクリーニングされる。

請求項（抜粋）：

膨脹に先立って加圧された流れ圧での温度の加圧された液体アルゴンもしくはガス状及び/又は液状窒素を含有するその圧力の温度の流れをその膨脹によって得られる冷却により、その流れの中に少なくとも実質的に固体のアルゴン又は窒素の粒子を形成させるように膨脹させて少なくとも実質的に固体のアルゴン又は窒素粒子-含有エーロゾルを形成させること、及び該エーロゾルを汚染粒子及び/又はフィルム-含有表面に向けてぶっつけ、前記汚染粒子及び/又はフィルムを除去することからなる少なくとも実質的に固体のアルゴン又は窒素粒子-含有エーロゾルの衝突流れを用いる前記汚染表面から汚染粒子及び/又はフィルムを除去する方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-230030