積層体の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-023855
公開番号（公開出願番号）：特開2006-206832
出願日： 2005年01月31日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】組成物を塗布して得られる1の塗膜から2以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。【解決手段】基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分(A)〜(D)を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この1の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。[紫外線硬化性樹脂組成物] (A)金属酸化物粒子 (B)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体 (C)(B)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤 (D)(A)金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、(C)の溶剤と相溶性である溶剤かつ、(C)の溶剤の相対蒸発速度が、(D)の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分(A)〜(D)を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この1の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。 [紫外線硬化性樹脂組成物] (A)金属酸化物粒子 (B)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体 (C)(B)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤 (D)(A)金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、(C)の溶剤と相溶性である溶剤かつ、(C)の溶剤の相対蒸発速度が、(D)の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい

IPC (9件)：

C08J 7/04 , B05D 1/36 , B05D 7/24 , B32B 27/30 , C09D 4/06 , C09D 5/00 , C09D 127/12 , C09D 183/04 , G02B 1/11

FI (9件)：

C08J7/04 A , B05D1/36 Z , B05D7/24 301T , B32B27/30 D , C09D4/06 , C09D5/00 Z , C09D127/12 , C09D183/04 , G02B1/10 A

Fターム (119件)：

2K009AA05 , 2K009AA06 , 2K009AA07 , 2K009AA08 , 2K009AA09 , 2K009AA15 , 2K009CC09 , 2K009CC24 , 2K009CC26 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009DD05 , 2K009EE03 , 2K009FF03 , 4D075AE03 , 4D075BB41Z , 4D075BB46Z , 4D075CA02 , 4D075CA22 , 4D075CB03 , 4D075DC24 , 4D075EB16 , 4D075EB38 , 4D075EB43 , 4D075EB52 , 4D075EC02 , 4D075EC30 , 4D075EC37 , 4F006AA02 , 4F006AA11 , 4F006AA12 , 4F006AA15 , 4F006AA22 , 4F006AA31 , 4F006AA35 , 4F006AA36 , 4F006AB42 , 4F006AB43 , 4F006AB52 , 4F006AB64 , 4F006AB74 , 4F006BA02 , 4F006BA15 , 4F006CA05 , 4F006CA08 , 4F006DA04 , 4F006EA03 , 4F100AA17B , 4F100AA17H , 4F100AJ06 , 4F100AK17B , 4F100AK17C , 4F100AK17J , 4F100AK17K , 4F100AK25B , 4F100AK25C , 4F100AK25J , 4F100AK46B , 4F100AK46C , 4F100AK46J , 4F100AK51B , 4F100AK51C , 4F100AK51J , 4F100AK52B , 4F100AK52C , 4F100AK52J , 4F100AL01B , 4F100AL01C , 4F100AR00D , 4F100AR00E , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA07 , 4F100BA26 , 4F100BA27 , 4F100CA30B , 4F100CA30C , 4F100DE01B , 4F100DE01H , 4F100GB41 , 4F100JA07B , 4F100JA07C , 4F100JB14B , 4F100JB14C , 4F100JG01B , 4F100JG03E , 4F100JK06 , 4F100JK12E , 4F100JL09 , 4F100JN06 , 4F100JN18B , 4F100JN18C , 4F100JN18D , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4F100YY00D , 4J038CG001 , 4J038DA161 , 4J038DB001 , 4J038DL032 , 4J038FA072 , 4J038FA231 , 4J038GA11 , 4J038GA12 , 4J038GA15 , 4J038HA166 , 4J038HA446 , 4J038JA32 , 4J038KA03 , 4J038KA06 , 4J038NA11 , 4J038NA19 , 4J038NA20 , 4J038NA25 , 4J038PA17 , 4J038PB08 , 4J038PC08

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭61-40845号公報
特公平6-98703号公報
反射防止性フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-293873 出願人：旭硝子株式会社

審査官引用 (4件)

反射防止膜、その製造方法、反射防止フィルムおよび画像表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-110471 出願人：富士写真フイルム株式会社
液状樹脂組成物、硬化膜及び積層体
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-424975 出願人：JSR株式会社
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、並びにそれを用いた硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-390328 出願人：ジェイエスアール株式会社

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