特許

J-GLOBAL ID：200903095985549733

レジスト塗布方法、レジストパターン形成方法及び溶液供給装置

発明者： 三井 壮一郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-049581
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244166
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 メンブレンマスクブランクスに対して、薄膜領域でのレジスト塗布膜厚の高い均一性を実現してパターン精度の向上をはかる。【解決手段】 遮光体としてのTa膜、メンブレンとしてのSiN薄膜、メンブレンの周辺部を支持する支持基板、支持基板を補強する補強枠からなるメンブレンマスクブランクス101をスピンコータの回転ヘッド部301に載置し、補強枠の裏面側を回転ヘッド部301に真空吸着した状態で、回転ヘッド部301を回転しながら、ブランクス101の中央部にノズル303からレジストを滴下してブランクス101の一主面にレジストを回転塗布する。レジストを塗布する面と反対側の面からメンブレンに対して気体圧力を印加し、レジストを塗布する面と反対側から計測センサ308によりメンブレンの高さ位置を検出し、検出される高さ位置が所望範囲に保持されるように気体圧力を制御する。

請求項（抜粋）：

少なくともメンブレンと該メンブレンの周辺部を支持する支持基板からなるメンブレンマスクブランクス上に所望のレジスト膜を形成するレジスト塗布方法において、前記ブランクスをスピンコータの回転ヘッド部に載置し、前記支持基板の裏面側を回転ヘッド部に密着固定した状態で、回転ヘッド部を回転しながらブランクスの概略中央部にレジストを滴下してブランクスの一主面にレジストを回転塗布する際に、前記レジストを塗布する面と反対側の面から前記メンブレンに対して気体圧力を印加し、前記レジストを塗布する面と反対側から前記メンブレンの高さ位置を検出し、検出される高さ位置が所望範囲に保持されるように気体圧力を制御することを特徴とするレジスト塗布方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501

FI (5件)：

G03F 1/16 A ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (18件)：

2H025AB16 ,  2H025DA18 ,  2H025DA20 ,  2H025EA05 ,  2H025EA10 ,  2H025FA14 ,  2H095BA10 ,  2H095BC01 ,  2H095BC08 ,  2H095BC27 ,  2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  2H096CA14 ,  2H096GA29 ,  2H096GA30 ,  5F046GD17 ,  5F046JA15 ,  5F046JA27