特許

J-GLOBAL ID：200903095986946990

ネガ型レジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327090
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142200
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。【解決手段】下記一般式(1)で表わされるアルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有する電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。式(1)中、R1は水素原子又はメチル基を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表わされる構造単位を含むアルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。【化1】式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。

IPC (11件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  C08J 3/24 CET ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/13 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  C08J 3/24 CET Z ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/13 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (49件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4F070AA18 ,  4F070AC37 ,  4F070AE08 ,  4F070GC09 ,  4J002BC121 ,  4J002BG071 ,  4J002EB006 ,  4J002EJ017 ,  4J002EJ047 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002EY006 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22Q ,  4J100BC04Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38