特許
J-GLOBAL ID：200903096014895054
投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-152115
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142327
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 一台の装置で簡便に、従来の異なる結像方式で得られる結像と同等の結像特性を得ると共に、従来の異なる技術の中間的な結像特性をも得る。【構成】 投影光学系の瞳面近傍に2枚の透明基板15及び17を配置し、透明基板15の下面に輪帯状の1/2波長板16を被着し、透明基板17の上面に小さい円形の1/2波長板18を被着する。透明基板15及び17の少なくとも一方を、投影光学系の光軸AXを中心に回転自在にして、必要な結像特性に応じて、1/2波長板16の主軸DAと1/2波長板18の主軸DBとの間の角度θを変える。
請求項（抜粋）：
所定の照明光のもとでフォトマスク上のパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に投影する投影露光装置において、前記投影光学系の瞳面の近傍の面上の異なる所定の複数の領域に、それぞれ主軸に平行な前記照明光の偏光成分と該主軸に交差する軸に平行な前記照明光の偏光成分とに所定の位相差を与える位相板を配し、前記所定の複数の領域にそれぞれ配された前記位相板の主軸の間の相対角度を可変にしたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
