特許
J-GLOBAL ID：200903096015912068
耐光性を改良したリソグラフィー用ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062513
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258895
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 ペリクル膜の材質が非晶質パーフルオロポリマーであって、短波長の真空紫外光を長時間照射しても、光劣化したり分解することがない長寿命で、かつ光透過率が高く変化のない高性能なリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 リソグラフィーに使用されるペリクル膜の材質として非晶質パーフルオロポリマーを用いたリソグラフィー用ペリクルにおいて、該ペリクル膜がフッ素ガスで処理され、表面上にフッ素化層を形成されたものであることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル、および非晶質パーフルオロポリマーからなるペリクル膜を成膜後、フッ素ガスで処理して該膜表面にフッ素化層を形成することを特徴とするリソグラフィー用ペリクルの製造方法。
請求項（抜粋）：
リソグラフィーに使用されるペリクル膜の材質として非晶質パーフルオロポリマーを用いたリソグラフィー用ペリクルにおいて、該ペリクル膜がフッ素ガスで処理され、表面上にフッ素化層を形成されたものであることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル
Fターム (2件)：
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