特許
J-GLOBAL ID：200903096021792856
半導体露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026263
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199412
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】 半導体露光装置において、ステージ移動時のマスクメンブレンの変形によるマスクとウエハの位置合せ誤差を排除し、もって、スループットを低下させることなくマスクとウエハの位置合せ精度および転写精度を高めて生産性をも向上させる。【解決手段】 マスクパターンをマスクメンブレン上に有するマスクと半導体ウエハとの位置関係を計測する位置計測手段を備え、この位置関係に基づいて前記マスクとウエハとを位置合せして前記マスクパターンを前記ウエハ上に露光する半導体露光装置において、前記マスクメンブレンのそれに垂直な方向の変形量を考慮して前記マスクとウエハ間の位置合せを行うことを特徴とする半導体露光装置。
請求項（抜粋）：
マスクパターンをマスクメンブレン上に有するマスクと半導体ウエハとの位置関係を計測する位置計測手段を備え、この位置関係に基づいて前記マスクとウエハとを位置合せして前記マスクパターンを前記ウエハ上に露光する半導体露光装置において、前記マスクメンブレンのそれに垂直な方向の変形量を考慮して前記マスクとウエハ間の位置合せを行うことを特徴とする半導体露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 531 A
, H01L 21/30 510
