特許

J-GLOBAL ID：200903096025894076

日射遮蔽用インジウム錫酸化物微粒子とその製造方法およびこれを用いた塗布液および日射遮蔽膜

発明者： 長南 武 ,  久野 裕子
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 押田 良輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-082557
公開番号（公開出願番号）：特開2002-201027
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】【課題】 可視光透過率が高くて日射透過率が低く、しかもへイズ値が低い日射遮蔽膜形成用のITO微粒子と、高コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布法で成膜できる塗布液と、これを用いた日射遮蔽膜を提供する。【解決手段】 日射遮蔽用ITO微粒子は、L*a*b*表色系(JIS Z8729)における粉体色が、L*が20〜52、a*が-4.4〜-0.1、b*が-10〜-3で、かつ平均粒径が100nm以下であることを特徴とする。日射遮蔽膜形成用塗布液は、前記ITO微粒子を溶媒中に分散したものであって、さらには樹脂バインダーまたは無機バインダーを分散したことを特徴とする。ITO微粒子は、平均粒径が100nm以下のITO微粒子を、アルコールを含む不活性ガス雰囲気下、あるいは塩素イオン、硝酸イオン、硫酸イオンからなる残留不純物量を0.6%以下とした後、不活性ガスまたはアルコールを含む不活性ガス雰囲気下で、200〜300°Cの温度で10分以上処理することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

L*a*b*表色系における粉体色が、L*が20〜52、a*が-4.4〜-0.1、b*が-10〜-3であり、かつ平均粒径が100nm以下であることを特徴とする日射遮蔽用インジウム錫酸化物微粒子。

IPC (3件)：

C01G 19/00 ,  B32B 9/00 ,  C03C 17/28

FI (3件)：

C01G 19/00 A ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/28 A

Fターム (23件)：

4F100AA00A ,  4F100AA17A ,  4F100AA19B ,  4F100AA20B ,  4F100AA21B ,  4F100AA27B ,  4F100AA33A ,  4F100AK01A ,  4F100AK25A ,  4F100BA02 ,  4F100CA02A ,  4F100CC00A ,  4F100DE01A ,  4F100GB90 ,  4F100JL10A ,  4F100JN01 ,  4G059AA01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC06 ,  4G059AC30 ,  4G059FA15 ,  4G059FA28 ,  4G059FB05