特許

J-GLOBAL ID：200903096032556798

露光方法および露光装置

発明者： 吉村 圭司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-198104
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021742
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 複数種類のパターンを被露光基板上の同一ショットに重ね焼きして1種類のパターンを形成する多重露光方式のスループットを向上させる。【解決手段】 複数のパターンを被露光基板上に実質同時に露光する際、単一の露光光源から出射される光束を分割して各パターンを別々の光束で照明するとともに分割した各光束の光路中に配置された照明系によって各光束ごとに所望の露光条件を設定する。

請求項（抜粋）：

複数のパターンを被露光基板上に実質同時に露光する際、単一の露光光源から出射される光束を分割して各パターンを別々の光束で照明するとともに分割した各光束の光路中に配置された照明系によって各光束ごとに所望の露光条件を設定することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521

Fターム (15件)：

5F046AA13 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB07 ,  5F046CB08 ,  5F046CB17 ,  5F046CB27 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC05 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC02