特許

J-GLOBAL ID：200903096037178309

描画方式および装置

発明者： 山本 礼己 ,  木村 信二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323694
公開番号（公開出願番号）：特開平7-182536
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 複数の描画コマンドを受け付けるような表示システムにおいて、描画をコマンド単位に並列実行し、高速な表示性能を得る。【構成】 新たに描画すべき描画コマンドを受け付けた時、カウンタ205に格納していた描画コマンドの受付順番号を1増やして再格納し、この新たな受付順番号をZバッファで用いる深さ情報として描画コマンドに付加しプロセッサに分配し、描画実行時には、表示画面の各ドット毎に、描画コマンドに付加された深さ情報とZバッファ109に既に書き込まれている深さ情報を比較し、描画コマンドに付加された深さ情報の方が大きかった場合のみ新たな深さ情報をZバッファに書き込むとともに表示メモリ108への描画を行なう。【効果】 Zバッファを用いることにより、描画順序の制約によらずに、並列に描画実行が可能となる。

請求項（抜粋）：

複数の描画コマンドにより描画を行なう描画方法において、描画コマンドの受付順をZバッファにおける深さ情報とすることにより描画コマンドの描画順序制御にZバッファを用いることを特徴とする描画方法。