特許
J-GLOBAL ID：200903096039313912
半導体露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-199789
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021307
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 露光中断したウエハの判断と処置を装置が自動的に行い、オペレ-タの作業負荷を軽減し、さらに半導体製造工程の自動化の促進を図った半導体露光装置を提供する。【構成】 半導体ウエハ5上に回路パタ-ンを露光転写する半導体露光装置において、露光処理したウエハ1枚ごとの露光デ-タを保持する記憶手段7を具備する。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハ上に回路パタ-ンを露光転写する半導体露光装置において、露光処理したウエハ1枚ごとの露光デ-タを保持する記憶手段を具備したことを特徴とする半導体露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 301 G
, H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 341 J
