特許
J-GLOBAL ID：200903096060102107
光磁気ディスクの磁区観察方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-202113
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062312
出願日： 1994年08月26日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 磁気力顕微鏡を用い、高分解能な光磁気ディスクの磁区像を得る。【構成】 基板上に記録磁性膜及び膜厚が50nmよりも厚い保護層が順次積層形成される光磁気ディスクの保護層の一部を除去してその膜厚を予め5nm〜50nmとしておき、記録磁性膜の磁区を磁気力顕微鏡により観察する。なお、光磁気ディスクの保護層が少なくとも誘電体膜,紫外線硬化型樹脂膜が積層形成されたものである場合には、紫外線硬化型樹脂膜を剥離した後、誘電体膜をエッチングすれば良い。さらに、上記誘電体膜のエッチングは化学的手段により行っても良く、エッチング液としてフッ酸,燐酸,硫酸,硝酸,塩酸,王水のうち少なくとも1種類以上を用いても良い。さらにまた、上記誘電体膜のエッチングは物理的手段により行っても良く、イオンスパッタリング或いはプラズマエッチングにより行っても良い。
請求項（抜粋）：
基板上に記録磁性膜及び膜厚が50nmよりも厚い保護層が順次積層形成される光磁気ディスクの記録磁性膜の磁区を磁気力顕微鏡により観察する光磁気ディスクの磁区観察方法において、保護層の一部を除去してその膜厚を予め5nm〜50nmとしておくことを特徴とする光磁気ディスクの磁区観察方法。
IPC (5件)：
G01R 33/12
, G01R 33/02
, G01R 33/10
, G11B 11/10 541
, G11B 11/10 581
