特許
J-GLOBAL ID:200903096065533769

位置合わせマーク

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-275328
公開番号(公開出願番号):特開2001-102285
出願日: 1999年09月28日
公開日(公表日): 2001年04月13日
要約:
【要約】【課題】スキャン転写型光露光装置と電子ビーム露光装置とを用いた露光方法に用いられる位置合わせマークにおいて、その形成領域の増加を抑制する。【解決手段】2本の第1のラインパターン101が、その長手方向に対して平行な方向に平行に並んで形成されている。第1のラインパターン101の幅方向を挟むように、第1のラインパターン101の両脇にそれぞれ、第1のラインパターン101の長手方向に対して垂直な方向に平行に並んだ6本の第2のラインパターン102が形成されている。第1のラインパターン101の幅方向を挟むように、第2のラインパターン102の両脇にそれぞれ、第1のラインパターン101の長手方向に対して平行な方向に平行に並んだ3本の第3のラインパターン103が形成されている。
請求項(抜粋):
長手方向に対して垂直な方向に平行に並んで配列された複数本の第1のライン状パターンと、第1のライン状パターンの長手方向に対して平行な方向に平行に並んで配列され、長手方向が第1のライン状パターンの長手方向と直交する複数本の第2のライン状パターンとを具備し、光露光の位置合わせに用いられる第1のマークと、この第1のマークの形成領域内に形成され、荷電ビーム露光の位置合わせに用いる第2のマークとを具備してなることを特徴とする位置合わせマーク。
FI (2件):
H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 541 K
Fターム (10件):
5F046AA09 ,  5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F056AA31 ,  5F056BD02 ,  5F056BD04 ,  5F056BD09

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