ポジ型フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327631
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153857
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 i線露光に適したレジスト特性のバランスに優れたポジ型フォトレジストを提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)フェノール類とアルデヒド類またはケトン類との重縮合物の1,2-ナフトキノンジアジド-6-スルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物であって、テトラヒドロフランを溶媒としたUV254nmの検出器を用いたゲルパーミエション・クロマトグラフィーにより得られたパターンにおける当該重縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量が3000〜12,000であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)下記一般式(1)で表されるフェノール類とアルデヒド類またはケトン類との重縮合物の1,2-ナフトキノンジアジド-6-スルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物であって、テトラヒドロフランを溶媒としたUV254nmの検出器を用いたゲルパーミエション・クロマトグラフィーにより得られたパターンにおける当該重縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量が3,000〜12,000であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式(1)中、R1〜R3は、水素原子、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基を示す。)

IPC (3件)：

G03F 7/023 501 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/023 501 , G03F 7/023 511 , H01L 21/30 502 R

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