ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-060930
公開番号（公開出願番号）：特開2007-240718
出願日： 2006年03月07日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】ラフネスが低減され、形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0)[Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基;Y1は脂肪族環式基;Zは酸解離性溶解抑制基;aは1〜3の整数、bは0〜2の整数を示し、かつa+b=1〜3であり;c、d、eはそれぞれ独立して0〜3の整数を示す。]で表される構成単位(a0)と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導され、かつ前記構成単位(a0)に該当しない構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0)で表される構成単位(a0)と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導され、かつ前記構成単位(a0)に該当しない構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , H01L 21/027 , G03F 7/004 , C08F 220/10

FI (4件)：

G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , G03F7/004 501 , C08F220/10

Fターム (24件)：

2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA11Q , 4J100BA15Q , 4J100BC02Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC74Q , 4J100CA03 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第2881969号公報

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