レジスト除去用組成物及びこれを用いたレジスト除去方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026358
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152190
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】レジストだけでなく、ポリマー、特に有機金属性ポリマー及び金属酸化物の除去能に優れるほか、下部膜を損傷しないレジスト除去用組成物及びこれを用いたレジスト除去方法を提供する。【解決手段】アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドと、アルカノールアミン、双極子モーメントが3以上の極性物質及び損傷防止剤よりなるグループから選ばれた1つ以上の化合物と、フッ化物系還元剤及び水酸化物系還元剤のうちいずれか1つ以上又は過酸化水素とを含む。

請求項（抜粋）：

アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドと、アルカノールアミン、双極子モーメントが3以上の極性物質及び損傷防止剤よりなるグループから選ばれた1つ以上の化合物と、フッ化物系還元剤及び水酸化物系還元剤のうち1つ以上を含むことを特徴とするレジスト除去用組成物。

IPC (2件)：

C11D 7/32 , H01L 21/304 647

FI (2件)：

C11D 7/32 , H01L 21/304 647 A

Fターム (13件)：

4H003BA12 , 4H003DA15 , 4H003EA05 , 4H003EA21 , 4H003EA23 , 4H003EB04 , 4H003EB14 , 4H003EB17 , 4H003EB19 , 4H003EB21 , 4H003ED02 , 4H003EE04 , 4H003FA15

引用特許：

審査官引用 (8件)

レジスト剥離剤組成物及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-252826 出願人：ナガセ電子化学株式会社
ヒドロキシルアミン-没食子化合物の組成物及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-191632 出願人：イーケーシーテクノロジー,インコーポレイティド
レジスト用剥離液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-166835 出願人：東京応化工業株式会社

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