オルガノポリシロキサン粉体処理剤及びそれを用いて処理された表面処理粉体、並びにこの表面処理粉体を含有する化粧料

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝田清暉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-172516
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363445
出願日： 2001年06月07日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】表面をオルガノポリシロキサンで処理した粉体を用いて、使用感、分散性が良く、耐水性、耐皮脂性を有し化粧持ちの良好な化粧料を提供する。【解決手段】一般式R1aHbR2cSiO(4-a-b-c)/2で表面処理した粉体を用いる。但し、式中のR1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はフッ素置換アルキル基で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基、R2は炭素数1〜6のアルコキシ基、或いは-CnH2nSiR3d(OR4)3-dで表される加水分解性基含有反応基である。R3は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はフッ素置換アルキル基で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基、R4は炭素数1〜6のアルキル基、a、b、c、dはそれぞれ0.5≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5、dは0〜2の整数であり、nは2〜20の整数である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1) R1aHbR2cSiO(4-a-b-c)/2 (1)で表されるオルガノポリシロキサン粉体処理剤;但し、R1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はフッ素置換アルキル基で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基、R2は炭素数1〜6のアルコキシ基、叉は下記一般式(2)で表される加水分解性基含有反応基、-CnH2nSiR3d(OR4)3-d (2)R3は、炭素数1〜30の、アルキル基、アリール基、アラルキル基及びフッ素置換アルキル基からなる群の中から選択される同種又は異種の有機基、R4は炭素数1〜6のアルキル基、a、b、c、dはそれぞれ0.5≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5、dは0〜2の整数であり、nは2〜20の整数である。

IPC (18件)：

C09C 3/12 , A61K 7/00 , A61K 7/02 , A61K 7/021 , A61K 7/027 , A61K 7/032 , A61K 7/06 , A61K 7/075 , A61K 7/08 , A61K 7/32 , A61K 7/40 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , C09C 1/00 , C09C 1/04 , C09C 1/36 , C09D183/05 , C09D183/08

FI (25件)：

C09C 3/12 , A61K 7/00 B , A61K 7/00 C , A61K 7/00 E , A61K 7/00 J , A61K 7/00 N , A61K 7/00 P , A61K 7/00 Q , A61K 7/00 R , A61K 7/02 P , A61K 7/021 , A61K 7/027 , A61K 7/032 , A61K 7/06 , A61K 7/075 , A61K 7/08 , A61K 7/32 , A61K 7/40 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , C09C 1/00 , C09C 1/04 , C09C 1/36 , C09D183/05 , C09D183/08

Fターム (81件)：

4C083AA081 , 4C083AA111 , 4C083AA121 , 4C083AB011 , 4C083AB051 , 4C083AB171 , 4C083AB211 , 4C083AB221 , 4C083AB231 , 4C083AB241 , 4C083AB331 , 4C083AB361 , 4C083AB431 , 4C083AB441 , 4C083AC011 , 4C083AC021 , 4C083AC071 , 4C083AC101 , 4C083AC111 , 4C083AC121 , 4C083AC131 , 4C083AC181 , 4C083AC241 , 4C083AC301 , 4C083AC351 , 4C083AC421 , 4C083AC441 , 4C083AC481 , 4C083AC541 , 4C083AC691 , 4C083AC711 , 4C083AD041 , 4C083AD071 , 4C083AD091 , 4C083AD131 , 4C083AD151 , 4C083AD161 , 4C083AD261 , 4C083AD351 , 4C083BB01 , 4C083BB11 , 4C083BB25 , 4C083BB36 , 4C083CC01 , 4C083CC02 , 4C083CC05 , 4C083CC11 , 4C083CC13 , 4C083CC14 , 4C083CC17 , 4C083CC19 , 4C083CC31 , 4C083CC33 , 4C083CC38 , 4C083CC39 , 4C083DD05 , 4C083DD08 , 4C083DD11 , 4C083DD15 , 4C083DD17 , 4C083DD22 , 4C083DD33 , 4C083DD41 , 4C083EE17 , 4J037AA08 , 4J037AA09 , 4J037AA11 , 4J037AA18 , 4J037AA22 , 4J037AA24 , 4J037AA25 , 4J037AA26 , 4J037AA27 , 4J037CC28 , 4J037EE02 , 4J037FF15 , 4J038DL031 , 4J038KA08 , 4J038KA14 , 4J038PB01 , 4J038PC01

引用特許：

審査官引用 (21件)

高分子被覆粉体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-132502 出願人：信越化学工業株式会社
新規なシリコーン粉体処理剤及びそれを用いて表面処理された粉体、並びにこの粉体を含有する化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-185999 出願人：信越化学工業株式会社
特公平5-004129

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