特許
J-GLOBAL ID：200903096099860912
プラズマCVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-149147
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339736
出願日： 1992年06月09日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】【目的】 保守管理に手間がかからず、処理品質も良好なプラズマCVD装置を提供する。【構成】 ガスを吹き出すシャワープレート4を取付けたシャワープレート取付部材5と電極部材6の間に絶縁体7を介装した電極を備えたプラズマCVD装置において、シャワープレート取付部材5と絶縁体7間及び絶縁体7と電極部材6間にそれぞれ可撓性中空体内に流体を封入したシール材12を介装し、薄膜形成時にシール材12内部の流体圧によってその可撓性中空体をシール面に密着させてシール面の加工精度が低い場合でもシール状態を確保し、電極部材6とシャワープレート取付部材5間の空間の壁面に薄膜が付着するのを防止する。
請求項（抜粋）：
処理室壁に固定した電極部材内に、反応ガスを吹き出すシャワープレートを着脱自在に取付けられかつ反応ガス供給通路を形成されたシャワープレート取付部材を配置し、シャワープレートを高周波電源に接続し、電極部材とシャワープレート取付部材の間に絶縁体を介装したプラズマCVD装置において、シャワープレート取付部材と絶縁体間及び絶縁体と電極部材間にそれぞれ可撓性中空体内に流体を封入したシール材を介装したことを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, C23C 16/54
, H01L 21/31
