特許

J-GLOBAL ID：200903096103747794

幾何ビームスプリッタおよびその作製方法

発明者： マティアス ヘラー ,  ヴェルナー クレス ,  マティアス クーン ,  シュテファン ヴァイゼンリーダー
出願人/特許権者： カール ツァイス セミコンダクター マニュファクチャリング テクノロジーズ アーゲー
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206914
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149418
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】少なくとも1つの金属層を有する反射コーティングを透明基板に塗布する段階を含む幾何ビームスプリッタを作製する。【解決手段】反射面全体に好ましくは不規則分布の多数の孔を含む孔パターンが、レーザ処理を使用して反射コーティングに形成される。この方法は、正確に定められた透過率を有するビームスプリッタを低コストで作製できるようにする。本発明に従ったビームスプリッタは、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系などの照射量測定鏡として使用するのに適している。

請求項（抜粋）：

幾何ビームスプリッタを作製する方法であって、透明材料からなる基板の表面に、少なくとも1つの金属層を含む反射コーティングを塗布する段階と、多数の透過孔を有する孔パターンを反射コーティングに形成する段階とを含み、孔パターンの孔は、レーザ処理によって形成される方法。

IPC (7件)：

G02B 5/08 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/14 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G02B 5/08 D ,  G02B 5/08 C ,  C23C 14/06 N ,  C23C 14/14 B ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 1/10 Z ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (29件)：

2H042DA02 ,  2H042DA08 ,  2H042DA09 ,  2H042DA22 ,  2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA14 ,  2H048GA36 ,  2H048GA51 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2K009BB04 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009DD03 ,  2K009DD15 ,  2K009EE00 ,  4K029AA04 ,  4K029AA08 ,  4K029BA03 ,  4K029BA42 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA01 ,  5F046BA03 ,  5F046CB09 ,  5F046CB22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光学装置用の照明ユニット
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-529931   出願人：アーエスエムリソグラフィベスローテンフェンノートシャップ
• 半透過反射体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-346694   出願人：帝人株式会社