特許
J-GLOBAL ID:200903096108256691

窒化ホウ素の気相合成法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-343557
公開番号(公開出願番号):特開平8-208207
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1996年08月13日
要約:
【要約】【目的】 緻密質の窒化ホウ素を1気圧下で或いは低温で合成し得る方法を提供する。【構成】 熱プラズマ或いは非平衡プラズマを用い、ホウ素源として三フッ化ホウ素、窒素源として含窒素化合物を原料とする気相合成法において、原料ガス中のH/Fの比を1以下とすることを特徴としている。基板温度は200°C以上から可能である。密度が1.95g/cm3以上の緻密質の窒化ホウ素が得られる。
請求項(抜粋):
熱プラズマ或いは非平衡プラズマを用い、ホウ素源として三フッ化ホウ素、窒素源として含窒素化合物を原料とする気相合成法において、原料ガス中のH/Fの比を1以下とすることを特徴とする窒化ホウ素の合成法。
IPC (2件):
C01B 21/064 ,  B01J 19/08

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