特許
J-GLOBAL ID:200903096111952569

成形装置、その製造方法およびその成形装置を用いた真空成形方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平山 一幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-096903
公開番号(公開出願番号):特開2000-289102
出願日: 1999年04月02日
公開日(公表日): 2000年10月17日
要約:
【要約】【課題】 複雑形状の製品を容易にかつ高精度に成形し得る成形装置、その製造方法およびその成形装置を用いた真空成形方法を提供する。【解決手段】 成形型の適所に設けた真空穴3を介して、被成形材を真空吸引して成形加工する。成形型1のまわりに密着する容器状の補強枠2を有し、補強枠2の内面との接触面に真空穴3を連通させる吸引バイパス4を設ける。成形型1はシリコン材でなり、被成形材を真空吸引する際、吸引バイパス4によって補強枠2の内面に吸着される。成形型1は縦方向に沿って2分割構成されている。
請求項(抜粋):
成形型に設けた真空穴を介して、被成形材を真空吸引して成形加工するようにした成形装置であって、成形型のまわりに密着する容器状の補強枠を有し、補強枠の内面との接触面に上記真空穴を連通させる吸引バイパスを設けたことを特徴とする成形装置。
IPC (4件):
B29C 51/36 ,  B29C 33/40 ,  B29C 51/10 ,  B29L 22:00
FI (3件):
B29C 51/36 ,  B29C 33/40 ,  B29C 51/10
Fターム (18件):
4F202AA24 ,  4F202AG07 ,  4F202AH55 ,  4F202AJ05 ,  4F202CA17 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CK11 ,  4F208AA24 ,  4F208AG07 ,  4F208AH55 ,  4F208AJ05 ,  4F208MA01 ,  4F208MB01 ,  4F208MC01 ,  4F208MC10 ,  4F208MJ23 ,  4F208MJ29

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