特許

J-GLOBAL ID：200903096115778431

シリカ系被膜形成用塗布液及び被膜形成方法

発明者： 飯田 啓之 ,  遠藤 弘樹 ,  小針 英也 ,  萩原 嘉男 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-200838
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050994
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【目的】 表面に凹凸部を有する基板上に凸部は薄く凹部は厚くシリカ系被膜膜を形成する。【構成】 回転塗布を低速の第1回転と高速の第2回転に分けて行う。第1回転の終了時点においては、図2(a)に示すようにツインパターン11,12及びグローバルパターン13上には所要の厚み以上のシリカ系被膜形成用塗布液14が盛られ、ツインパターン11,12間には所要の厚み以下のシリカ系被膜形成用塗布液14が入り込んでいる。第2回転の開始時点においては、図2(b)に示すようにパターン上に盛られたシリカ系被膜形成用塗布液14がパターン間に流れ込み、更に第2回転の終了時点においては、図2(c)に示すようにツインパターン11,12上のシリカ系被膜形成用塗布液14の厚みは略0になり、またグローバルパターン13上のシリカ系被膜形成用塗布液14の厚みは中央部は多少厚いが全体的に薄くなる。

請求項（抜粋）：

一般式R12Si(OR3)2・・・・・・(I)R2Si(OR4)3 ・・・・・・(II)及びSi(OR5)4・・・・・・・・(III)(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基又はフェニル基を示し、R3、R4及びR5はそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示す)で表わされるアルコキシシラン化合物の少なくとも2種の混合物を、酸触媒の存在下で加水分解して得られる反応生成物、有機溶剤及び第4級アンモニウム塩化合物を含有してなるシリカ系被膜形成用塗布液。

IPC (6件)：

H01L 21/316 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/075 521 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/316 H ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/075 521 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/30 564 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-230828
  
• 特開平4-180977
  
• 特開平3-053529
  
• 特許第3280791号