特許
J-GLOBAL ID：200903096117384961
エッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123896
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333876
出願日： 1993年05月26日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 この発明はエッチング用反応性ガスによってエッチングを行う場合に、エッチングレ-トを向上させることができるようにしたエッチング装置を提供することを目的とする。【構成】 被加工物2が設置されるエッチングチャンバ1と、このエッチングチャンバにエッチング用反応性ガスを供給する供給源6と、この供給源からのエッチング用反応性ガスを励起してプラズマ化するためのマイクロ波を発生するクライストロン8とを具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被加工物が設置されるエッチングチャンバと、このエッチングチャンバにエッチング用反応性ガスを供給する供給源と、この供給源からのエッチング用反応性ガスを励起してプラズマ化するためのマイクロ波を発生するクライストロンとを具備したことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件)：
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