特許

J-GLOBAL ID：200903096120507926

浄化槽およびその浄化方法

発明者： 杉光 英俊 ,  渕上 義文 ,  山田 悟
出願人/特許権者： 山田 悟
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033463
公開番号（公開出願番号）：特開2000-233192
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】 小型の浄化槽処理設備のような特殊な環境に対して、オゾンを利用した浄化システムを適用すること。【解決手段】 曝気槽3と、曝気槽3に対し空気を供給するブロア7および散気管8と、オゾンを発生するオゾン発生装置10と、を備え、オゾン発生装置10により発生したオゾンを、ブロア7および散気管8により供給された空気の空気流を利用して、浄化槽1の上部空間に、0.1ppm前後の濃度に維持した状態で供給する。

請求項（抜粋）：

曝気槽と、前記曝気槽に対し空気を供給する空気供給手段と、オゾンを発生するオゾン発生手段と、を備え、前記オゾン発生手段により発生したオゾンを、前記空気供給手段により供給された空気の空気流を利用して、浄化槽の上部空間に、0.1ppm前後の濃度に維持した状態で供給することを特徴とする浄化槽。

IPC (4件)：

C02F 3/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74

FI (4件)：

C02F 3/00 B ,  C02F 3/00 E ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 116 F

Fターム (13件)：

4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002CA01 ,  4D002CA06 ,  4D002CA11 ,  4D002DA51 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D027AA02 ,  4D027AA12 ,  4D027AA16