特許
J-GLOBAL ID:200903096135682708
水素水製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中野 雅房
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-342185
公開番号(公開出願番号):特開2006-150188
出願日: 2004年11月26日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】 本発明の目的とするところは、電解槽内の水の分解効率を上げ、水素ガスを効率よく供給することができる水素水製造装置を提供することにある。【解決手段】 浴槽103内の浴水(温水)と、電解槽116で水を電気分解して発生させた水素ガスを気液混合タンク102内に供給する。浴水は、気液混合タンク102内で水素ガスが溶解されて再び浴槽103内に噴出される。浴槽103から気液混合タンク102へ浴水を供給する吸込管105は、電解槽116の周囲に接して巻き付くようにして配管されており、吸込管105内を流れる浴水の熱によって、電解槽116内に溜められた電解液を加温する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
気液混合タンクと、温水を前記気液混合タンクに注入する第1の水流路と、前記気液混合タンク内の温水を送り出す第2の水流路と、前記両水流路及び前記気液混合タンクに温水を通過させるためのポンプと、水素ガスを発生させるための電解槽と、前記電解槽から前記気液混合タンクに水素ガスを供給する水素ガス供給管とを備えた水素水製造装置において、
前記気液混合タンクを流れる温水の熱を利用して前記電解槽内の電解液を加温する手段を有することを特徴とする水素水製造装置。
IPC (6件):
C02F 1/46
, A47K 3/00
, B01F 1/00
, C02F 1/68
, C25B 1/04
, C25B 15/08
FI (15件):
C02F1/46 Z
, A47K3/00 E
, A47K3/00 M
, A47K3/00 Z
, B01F1/00 A
, C02F1/68 510H
, C02F1/68 520B
, C02F1/68 530B
, C02F1/68 530K
, C02F1/68 530L
, C02F1/68 540C
, C02F1/68 540E
, C02F1/68 540Z
, C25B1/04
, C25B15/08 302
Fターム (27件):
2D005FA00
, 4D061DA07
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB04
, 4D061EB11
, 4D061EB19
, 4D061EB37
, 4D061EB39
, 4D061ED12
, 4D061ED13
, 4D061FA01
, 4D061FA08
, 4D061FA13
, 4D061GA04
, 4D061GA09
, 4D061GC11
, 4D061GC14
, 4D061GC20
, 4G035AA01
, 4G035AE02
, 4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BC07
, 4K021CA09
, 4K021CA12
, 4K021DC03
引用特許:
前のページに戻る