特許

J-GLOBAL ID：200903096147581460

液晶表示装置の製造方法

発明者： 中谷 紀夫
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-035542
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250216
出願日： 1993年02月24日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 大画面、高密度の液晶パネルに於て、ゲートラインを低抵抗のAlで構成しても、このAlの腐食等が発生しない製造方法を達成することを目的とする。【構成】 ガラス基板(51)の上にゲートライン(53)、補助容量ラインの他に、第1および第2の接続手段、陽極酸化端子およびライン等が、同一材料のAlで形成され、この後陽極酸化を行うが、この陽極酸化の前後において、レジスト付着工程を全く経ないで次のゲート絶縁膜形成工程に移る。

請求項（抜粋）：

透明な絶縁性基板に設けられたAlより成る構成部をパターニングした後、直ちに全面に渡り陽極酸化する工程と、この上にゲート絶縁膜、半導体層を形成した後、このゲート絶縁膜上に設けられる導電ラインと前記構成部とのコンタクト部に対応する位置にコンタクト孔を形成する工程と、このコンタクト孔を介して前記構成部の陽極酸化膜を除去する工程とを少なくとも有することを特徴とした液晶表示装置の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/784

FI (2件)：

H01L 29/78 311 A ,  H01L 29/78 311 G