特許
J-GLOBAL ID:200903096155307300

微細X線ビーム走査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-249070
公開番号(公開出願番号):特開平7-104099
出願日: 1993年10月05日
公開日(公表日): 1995年04月21日
要約:
【要約】【目的】 本発明は微小部をX線を用いて分析する場合に必要となる被照射体上所望位置への微細X線ビームの高精度位置合わせとともに、その所定領域を走査できる微細X線ビーム走査装置を提供する。【構成】 XLP(1)の外壁に圧電効果素子(7、8、9)を取り付け、この素子に電圧をかけると素子が伸縮する逆圧電効果により、XLPを任意方向に曲げX線ビームを走査する。XLPの曲げ変形量は、圧電効果素子に加える電圧を調整することにより制御する。
請求項(抜粋):
X線源と、前記X線源に近接して配置されたXLPと、前記XLPの外壁に設けられた圧電効果素子と、前記圧電効果素子に電圧を印加して前記圧電効果素子を伸縮させる手段とを有することを特徴とする微細X線ビーム走査装置。

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