特許

J-GLOBAL ID：200903096158737739

磁気記録膜を備える記録媒体及びその保護膜形成方法

発明者： 島▲崎▼ 勝輔 ,  磯江 昇 ,  渡辺 利幸 ,  小山 栄二 ,  鷹尾 弘樹
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 杉浦 康昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-085513
公開番号（公開出願番号）：特開2000-285538
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 小径の光磁気デイスクではスピン塗布保護膜層の外周側に磁気ヘッドが激突する凸状突出環部が形成されると記録容量を非常に小さくする。【解決手段】 紫外線硬化性樹脂等をスピン塗布によって形成する光磁気デイスクの透明基板等の外周部に塗布液の外方向流れをよくする変形加工を加えて用いること、及び/或いは塗膜外周部の凸状突出環部を外側へ移動させて突出高を低減或いは消滅させる機能を付加させたスピン塗布装置システムを用いてピン塗布保護膜層を備える光磁気デイスクを作製する。

請求項（抜粋）：

少なくとも透明膜層と磁気記録層と保護膜層とを有し、該保護膜層はスピン塗布によって磁気記録層を包含するように塗装することによって形成される磁気記録膜を備える記録媒体において、上記保護膜として保護膜の外表面の凹凸における凸部が5〜10μmの範囲以下の高さからなる保護膜領域によって少なくとも磁気記録層の外周端まで包含することを特徴とする磁気記録膜を備える記録媒体。

IPC (9件)：

G11B 11/10 521 ,  G11B 11/10 506 ,  G11B 11/10 511 ,  G11B 11/10 531 ,  G11B 11/10 ,  G11B 11/10 541 ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84

FI (9件)：

G11B 11/10 521 E ,  G11B 11/10 506 U ,  G11B 11/10 511 B ,  G11B 11/10 531 A ,  G11B 11/10 531 D ,  G11B 11/10 541 F ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84 B

Fターム (18件)：

5D006AA05 ,  5D006BA13 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA04 ,  5D006DA08 ,  5D075EE03 ,  5D075FF12 ,  5D075FG04 ,  5D075FH02 ,  5D075GG04 ,  5D075GG12 ,  5D075GG16 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112CC12 ,  5D112GA02 ,  5D112GA19