特許

J-GLOBAL ID：200903096159281305

高周波加熱装置

発明者： 福本 明美 ,  信江 等隆 ,  吉野 浩二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-042535
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243551
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】 高周波加熱装置において、加熱室内のマイクロ波の分布を変化させて、被加熱物の加熱むらをなくすことができるようにしたものである。【解決手段】 高周波発生手段11と、被加熱物を収納する加熱室13と、加熱室13を形成する壁面18に設けた開孔部17と、開孔部17を一端とする溝部19と、溝部19内に設けた開孔部17のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段20と、インピーダンス可変手段20を回転駆動する駆動手段21と、マグネトロン11と駆動手段21の少なくとも一方を制御する制御手段22を備え、インピーダンス可変手段20により加熱室13の壁面18の高周波電流の流れを乱すことによってマイクロ波の分布を変化させ、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。

請求項（抜粋）：

被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、前記インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段と、前記被加熱物の加熱情報に基づいて前記高周波発生手段と前記駆動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを備えた高周波加熱装置。

IPC (3件)：

H05B 6/74 ,  H05B 6/68 320 ,  H05B 6/68

FI (3件)：

H05B 6/74 E ,  H05B 6/68 320 M ,  H05B 6/68 320 G

Fターム (23件)：

3K086AA01 ,  3K086BA08 ,  3K086BB02 ,  3K086CB12 ,  3K086CC01 ,  3K086CD11 ,  3K086CD15 ,  3K086CD19 ,  3K086CD27 ,  3K086CD30 ,  3K086DA05 ,  3K086DB16 ,  3K086DB17 ,  3K086FA03 ,  3K090AA01 ,  3K090AB02 ,  3K090AB03 ,  3K090BA01 ,  3K090BB17 ,  3K090CA02 ,  3K090CA21 ,  3K090DA15 ,  3K090EB02