特許

J-GLOBAL ID：200903096163845620

低ヒドロキシル含有率のノボラツク樹脂およびそれから製造される高コントラスト高熱安定性ポジ形ホトレジスト

発明者： リチヤード エム.ラザラス ,  ランダル コーツ ,  スニツト エス.デイキイシイツト
出願人/特許権者： モートン インターナシヨナル,インコーポレイテイド
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-014334
公開番号（公開出願番号）：特開平5-032751
出願日： 1991年02月05日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：

【要約】ノボラック樹脂が、ヒドロキシル価、ヒドロキシルの当量当り約 120〜約 180グラムの樹脂、を有する、(a)フェノール、フェノール誘導体、またはそれらの混合物、ならびに(b)ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド先駆物質および(1)少なくとも一部分のヒドロキシル基がエステル化されている、モノヒドロキシ芳香族アルデヒド、あるいは(2)少なくとも1種のモノヒドロキシ芳香族アルデヒド、および少なくとも1種の非-ヒドロキシル芳香族アルデヒドの混合物、の混合物、の縮合生成物である;ノボラック樹脂が供給される。ノボラック樹脂は、ポジ形ホトレジスト配合物で特に有用であり、増強光速度およびフィルム損失特性、ならびに改良熱安定性を有する。

請求項（抜粋）：

ノボラック樹脂が、ヒドロキシル価、ヒドロキシルの当量当り約 120〜約 180グラムの樹脂を有する、下記(a)ならびに(b):(a)フェノール、フェノール誘導体、またはそれらの混合物、ならびに(b)ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド先駆物質、および(1)前記ノボラック樹脂が、脂肪族または芳香族エステル基が水素原子の代りに、少なくとも一部分のヒドロキシル基で存在するように、エステル化されたそのヒドロキシル基を有する、モノヒドロキシ芳香族アルデヒド、あるいは(2)少なくとも1種のモノヒドロキシ芳香族アルデヒドおよび少なくとも1種の非-ヒドロキシル芳香族アルデヒドの混合物、を含む、アルデヒドの混合物、の縮合生成物を含むノボラック樹脂。

IPC (4件)：

C08G 8/28 NBZ ,  G03C 1/00 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027