特許
J-GLOBAL ID:200903096174078346

フィルター

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-035674
公開番号(公開出願番号):特開2002-239317
出願日: 2001年02月13日
公開日(公表日): 2002年08月27日
要約:
【要約】【課題】 マイクロリアクター、ケミカルチツプ、パイオチツプ、Lab-on-a-chip 、ナノチップ等の構造体におけるフィルター部で、且つ、流路内にエッチング等により形成された柱状構造体を設けたフィルター部で、特に、作製の際の洗浄に耐え、接続部分等の破損、液もれを引き起こさない構造のものを提供する。【解決手段】 加工用素材である基板の表面にドライエッチング、ウエトエツチングなどの化学的処埋、あるいはレーザー、ファーストアトムビーム、イオンビームなどによるエネルギー線照射処理による加工処理を施し、表面部に突出して形成された島状の柱状物を一体として複数有する第1の基材と、前記柱状物を間に挟むように、柱状物を密閉するように接合する平板状の第2の基材とからなり、第1の基材と第2の基材とで密閉された島状の柱状物の隙間をフィルター流路として形成するもので、第1の基材への、柱状物の着床部分の面積を、1.5MHzの超音波洗浄ノズルによる超純水噴射洗浄に耐えるように、制御している。
請求項(抜粋):
マイクロリアクター、ケミカルチツプ、パイオチツプ、Lab-on-a-chip 、ナノチップ等の構造体に形成される微小流路中に配置される、物質の分離やろ過に使用されるフィルター、あるいは、物質の分離やろ過に使用されたものをテスト等に使用するための、テストピース用のフィルターであって、加工用素材である基板の表面にドライエッチング、ウエトエツチングなどの化学的処埋、あるいはレーザー、ファーストアトムビーム、イオンビームなどによるエネルギー線照射処理による加工処理を施し、表面部に突出して形成された島状の柱状物を一体として複数有する第1の基材と、前記柱状物を間に挟むように、柱状物を密閉するように接合する平板状の第2の基材とからなり、第1の基材と第2の基材とで密閉された島状の柱状物の隙間をフィルター流路として形成するもので、第1の基材への、柱状物の着床部分の面積を、1.5MHzの超音波洗浄ノズルによる超純水噴射洗浄に耐えるように、制御していることを特徴とするフィルター。
IPC (4件):
B01D 39/00 ,  B81B 1/00 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/40 521
FI (5件):
B01D 39/00 A ,  B01D 39/00 B ,  B81B 1/00 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/40 521
Fターム (25件):
2H096AA30 ,  2H096BA09 ,  2H096CA05 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096HA14 ,  2H096HA15 ,  2H096HA23 ,  2H096HA24 ,  2H096JA04 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097LA20 ,  4D019AA03 ,  4D019AA04 ,  4D019BA01 ,  4D019BA04 ,  4D019BA05 ,  4D019BA06 ,  4D019BA13 ,  4D019BB01 ,  4D019BD01 ,  4D019BD10 ,  4D019CB04 ,  4D019CB06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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